Les línies de producció d'inspecció d'hòsties de semiconductors, AOI òptica i raigs X imposen estàndards extremadament estrictes per a entorns nets. Quan els enginyers d'R+D d'equips seleccionen materials base per a marcs de pòrtic, sorgeix una pregunta habitual: el granit és una pedra natural amb porus microscòpics a la seva superfície i es genera pols durant el mecanitzat. Es pot utilitzar com a cos principal de pòrtics per a equips d'inspecció de semiconductors i satisfer de manera estable els requisits de classe neta de les línies de producció? Molta gent creu intuïtivament que els metalls i la ceràmica són materials preferits per als ambients nets, i el granit difícilment s'adapta als tallers d'alta neteja. Aquest judici s'ha de reavaluar combinant els processos de tractament de materials i les condicions de treball in situ.
L'indicador bàsic d'avaluació de la classe de neteja és si el component allibera contínuament partícules i deixalles, si acumula fàcilment pols i si els contaminants de la superfície es poden netejar convenientment. No depèn simplement del tipus de material base. El granit natural cru sense tractar conserva els microporus natius a la superfície. La pols de pedra fina que queda després de la mòlta i el tall es pot pelar sota la pertorbació de l'aire i la fricció alternatiu durant el moviment de l'equip. Aquests materials de pedra aspra no es poden utilitzar en línies de producció netes de semiconductors. Aquesta és la raó fonamental per la qual els productes de molts petits fabricants de pedres fracassen sovint les proves de partícules en sala neta.
UNPARALLELED Group ha desenvolupat una solució de tractament dedicada completa per a pòrtics de granit orientades a escenaris de sales netes de semiconductors. Bloqueja les fonts d'alliberament de partícules des del cribratge del material base fins als procediments de postprocessament. El granit negre UNPARALLELED® es selecciona amb una estructura interna inherentment densa i una porositat molt més baixa que el granit normal, la qual cosa redueix des del principi els microbuits que atrapan la pols. El mecanitzat en brut i la mòlta fina adopten un processament humit complet per eliminar la pols de pedra a temps i evitar que la pols s'incorpori als porus superficials. Després del mecanitzat, es realitzen múltiples rondes de segellat de superfícies i passivació per segellar els microporus residuals a la superfície del granit i aturar l'emissió contínua de partícules del substrat de pedra. A continuació, es realitza un polit de gran precisió per formar una superfície compacta i llisa, reduint l'adhesió de pols i evitant la generació de pols secundària durant l'eixugament i la neteja.
Més enllà del tractament del material superficial, el muntatge de components és un altre enllaç crític per al control de la neteja. Els components ordinaris de granit es solen muntar en tallers generals, introduint pols i impureses durant el muntatge. UNPARALLELED ha construït un taller de muntatge net a temperatura constant i humitat constant que simula les condicions de treball dels semiconductors. En aquest espai net es completen procediments com ara la unió, incrustació i preinstal·lació de components de coixinets d'aire per a pòrtics de granit. Totes les eines i eines es netegen segons els estàndards de la sala neta i els operadors segueixen les especificacions d'operació neta per minimitzar la pols residual als buits dins dels components. Abans del lliurament, els productes acabats se sotmeten a proves d'alliberament de partícules. Simulant el moviment continu de l'equip i les condicions de circulació de l'aire, es prova el nivell d'emissió de partícules dinàmiques dels components per verificar el compliment dels estàndards de neteja de la línia de producció de semiconductors.
També cal tenir en compte l'estabilitat operativa a llarg termini. Els pòrtics d'inspecció de semiconductors requereixen un moviment alternatiu continu acompanyat de vibracions i lleugeres fluctuacions de temperatura. Si l'adhesió de la capa de segellat de la superfície és insuficient, es pot produir pelatge del recobriment sota vibracions a llarg termini i crear nous contaminants. El procés de tractament d'UNPARALLELED aborda totalment aquest risc. El material de segellat s'uneix estretament amb el substrat de granit, resistint la variació de temperatura i les vibracions sense pelar ni vessar restes. Mentrestant, el granit no genera electricitat estàtica, a diferència d'alguns materials polimèrics, de manera que és menys propens a adsorbir partícules fines en suspensió. Això es converteix en un avantatge únic en escenaris sensibles a l'estàtica com la inspecció d'hòsties.
El compliment dels estàndards de neteja no es pot separar del disseny estructural optimitzat. Les cantonades, els forats de cargol i les costures d'empalmament dels pòrtics són zones propenses a l'acumulació de pols. UNPARALLELED optimitza les formes estructurals en la fase de disseny, minimitzant els rebaixats i els buits estrets que atrapen la pols. S'adopten fixacions ocultes per reduir els punts d'acumulació de pols. Durant el manteniment de l'equip, els operadors poden netejar fàcilment la superfície del pòrtic i eliminar la pols solta, sense preocupar-se de que la superfície de pedra s'espatlla contaminant les hòsties i les lents òptiques.
En molts projectes d'inspecció òptica i de semiconductors lliurats, s'han aplicat amb èxit els pòrtics de granit sense paral·lel amb un tractament de neteja total a les línies de producció netes d'inspecció d'hòsties, AOI i inspecció de raigs X. Tot i que compleix amb els requisits de classe de sala blanca ISO, la baixa expansió tèrmica inherent del granit i les característiques de supressió de vibracions d'alt amortiment garanteixen una precisió estable durant la imatge i la mesura òptica. La modificació de la neteja del material i el disseny estructural d'ultra precisió procedeixen simultàniament. Això transforma el granit d'un simple bloc de referència de metrologia utilitzat en laboratoris de mesura en un candidat qualificat per a pòrtics d'alta precisió en línies de producció neta de semiconductors.